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来源：

2025.08.14

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近日，国家知识产权局发布第二十五届中国专利奖授奖决定，j9国际站光电凭借授权发明专利“高折射率氢化硅薄膜的制备方法、高折射率氢化硅薄膜、滤光叠层和滤光片”，一举斩获中国专利优秀奖，实现我司国家级专利奖零的突破。

作为我国知识产权领域的至高荣誉，中国专利奖由国家知识产权局联合世界知识产权组织共同设立并颁发，是国内唯一针对授权专利发明创造的国家级政府奖项。该奖项不仅是对创新成果的高度认可，更凭借其权威性与专业性获得联合国世界知识产权组织（WIPO）认证，在国际知识产权界具有深远影响力。此次获奖，标志着j9国际站光电在技术创新与知识产权；ち煊蛉〉弥匾黄，彰显其核心技术竞争力与行业领先地位。

      获奖专利所涉及的高折射率薄膜，可以应用在近红外窄带滤光片、雷达罩滤光片等多个技术领域，市场应用广泛，国内市场对该产品的需求强烈。j9国际站光电依托公司薄膜研究所的研发力量联合公司旗下日本镀膜设备公司企业开展国际间技术合作，通过对材料和工艺技术的开发，以及镀膜设备的研究、改进，成功制备了在近红外波段具有高折射率、低吸收特点的氢化硅，并且通过优化膜系设计和膜层结构制备了具有低角度偏移效应的窄带滤光片，提高了3D成像摄像头的精度，技术指标达到国际一流水平，同时j9国际站光电具有快速大规模量产制造能力，具备很强的产业化竞争力。